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  • CVD管式爐
    時(shí)間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:6962

    CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶(hù)需要設(shè)計(jì)生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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  • 1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)
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    CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶(hù)需要設(shè)計(jì)生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

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  • 1200℃滑動(dòng)式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-10-28生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:5487

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

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  • 1200℃雙管滑動(dòng)式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)
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    產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì),特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究,通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

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  • 石墨烯系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家瀏覽量:6138

    公司主營(yíng)快速退火爐 馬佛爐管式電阻爐/熱處理電阻爐/高溫箱式電阻爐中環(huán)電阻爐/干燥箱/恒溫干燥箱/鼓風(fēng)干燥箱/電熱鼓風(fēng)干燥箱/真空干燥箱/遠(yuǎn)紅外干燥箱/濕熱實(shí)驗(yàn)箱/高溫電熱鼓風(fēng)干燥箱/大型電熱鼓風(fēng)干燥箱/水箱/電熱水箱/恒溫水箱/電熱恒溫水箱/萬(wàn)用電爐/封閉萬(wàn)用電爐/封閉電爐/CVD爐/cvd電爐/rtp爐/快速退火爐/立式電爐/管爐/石磨希電爐/RTP/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐

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